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紫外曝光机
  • 紫外曝光机--紫外曝光机系统|掩模对准机|mask aligner适合对紫外光敏感层的处理-孚光精仪公司

紫外曝光机

这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层曝光处理,是理想的紫外掩膜曝光机系统和掩膜对准机,mask aligner.紫外曝光机广泛用于光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。
型号:
FPMIC-aligner
品牌:
孚光精仪
价格:
¥0.00
类别:
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线 4006-118-227, 021-51300728 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-领先的进口精密仪器服务商欢迎您!

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这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层曝光处理,是理想的紫外掩膜曝光机系统和掩膜对准机,mask aligner.紫外曝光机广泛用于光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。
紫外掩曝光机特点
1)完美的单色曝光,曝光带宽小于10nm;
2)冷紫外曝光,衬底环境温度实时控制,从而实现均匀曝光,消除热效应;
3)超强的功率密度
4) 紫外LED寿命更长,高达10000小时;
5)方便用户使用的触摸屏配置;
6) 不需要预热;
7)计算机控制紫外光源强度调节;
8)自动晶圆装载和卸载功能;
9)超低能耗;
更多激光直写光刻机请浏览官网:http://www.felles.cn/guangkeji.html
紫外掩曝光机参数
分辨率:2微米
发射光谱:365+/-5nm,  385+/-5nm
4英寸晶圆照明: 25mW/cm^2 +/-10%
暴晒时晶圆温度加热:<1摄氏度
暴晒循环:1秒~18小时
记忆的曝光循环数: 10个
功率:180W
重量:8.2kg
尺寸: 260x260x260mm^2
电源: 110V/230v50Hz

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