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  • 工业级飞秒激光器可输出100W功率的1030nm脉冲能量,单脉冲能量可达500uJ,脉宽<500fs. 我们可根据用于要求提供200W功率的1030nm激光,提供515nm和343nm的飞秒激光器。
  • 科研级飞秒激光器Lithium1050是为科研用途设计的高光束质量飞秒激光器,可发射1050nm飞秒激光,峰值功率高度几百瓦。
  • 高脉冲能量飞秒激光器DE系列基于IMRA的**光纤Chirped脉冲放大(FCPA)技术,以*快的速率为选定的材料处理提供足够的脉冲能量。
  • 台式薄膜沉积系统为是模块化的PVD系统,为您的研究和实施应用提供了多种沉积选项。可装配电子束蒸发源E-beam,ORCA低温蒸发源,热蒸发源,磁控溅射等。
  • 太阳能电池单面干法刻蚀机是专业为晶圆刻蚀设计的干法蚀刻机。
  • 光束线同步PLD系统,新型脉冲激光沉积系统适合原位同步衍射/散射研究,精确了解影响薄膜界面形成和生长的机制。同步辐射X射线衍射和反射是研究薄膜结构和界面的一种重要方法。然而,至关重要的是,这些样品不能暴露在大气中,因为即使是亚单层污染也可能破坏表面效应或改变薄膜。
  • 超高真空激光分子束外延集群系统 laser cluster将不同的薄膜和分析技术结合成一个强大的系统。***多可将七个单独的腔室连接到中央传输模块,从而在超高真空条件下实现复杂的处理
  • 激光分子束外延系统Laser MBE是新型激光薄膜制备技术设备,它集成了普通分子束外延(MBE)的超高真空、原位监测的*点和脉冲激光沉积(PLD)的易于控制化学组分的*点。
  • 脉冲激光沉淀系统工作站PLD是终极氧化还原系统,脉冲激光沉积(PLD)是一种用于薄膜沉积的多用途工艺,其主要*点是将化学计量的材料从靶转移到衬底。
  • 电子束蚀刻机,电子束光刻机NanoBeam nB5是纳米级刻蚀机,非常适合纳米技术和芯片的制造研发。
  • 光学镀膜检测仪PHOTON RT UV-VIS-MWIR是为光学镀膜分析检测设计的镀膜扫描分光光度计,满足光学样品的无人值守薄膜测量。测量基片上同一区域的透射率和绝对镜面反射率–非常适合薄膜设计的反向分析,有效波长范围为185nm至5200nm
  • 激光微纳加工系统是始终是为激光微细加工设计的皮秒激光工作站,满足各种工艺级微加工需要。
  • 回流焊翘曲度检测仪是为回流焊制程中的翘度度和平坦度成像分析设计的回流焊模拟仪器。它能够再现回流焊环境温度,让加热中的PCB表面贴装电子元件,电路板翘曲,平整度再现可视,从而发现表面贴装不良的原因。
  • 这套飞秒激光微加工系统是科研级飞秒激光微细加工系统,具有纳米级精度和灵活性和多功能性,适合实验室多用途飞秒激光微加工科学研究和飞秒激光微细加工研究,还可用于三维多光子聚合MPP,飞秒激光蚀刻,飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光划线等飞秒激光微细加工.
  • 飞秒激光量子芯片微加工系统是科研级飞秒激光波导直写系统,满足量子芯片刻划和飞秒激光波导制作等实验室多用途飞秒激光微加工,飞秒激光微纳加工研究。
  • 多光子聚合激光工作站FemtoMPP是采用飞秒激光增材技术的飞秒激光多光子聚合光刻机,多光子聚合实验系统,采用立陶宛Lightconversion公司的Pharos或Carbide飞秒激光器.
  • 飞秒激光光栅直写系统FemtoFBG是专业为FBG布拉格光栅直写和飞秒激光波导直写设计的飞秒激光波导直写系统,满足各种波导制作和布拉格光栅制作的需要。
  • 蓝宝石玻璃激光切割划片机FemtoGlASS采用立陶宛lightconversion飞秒激光器,专业用于飞秒激光蓝宝石激光划片切割和飞秒激光玻璃裁切,满足各种蓝宝石和玻璃屏幕科研生产需要。
  • 全波段光致发光测量系统RPMBlue系统是为半导体化合物衬底晶圆光致发光检测而涉及,在整个波长范围内提供准确的PL光谱mapping计量,可用于GaN FET和UV激光器/LED的高铝含量AlGaN合金衬底。
  • 晶圆光致发光和缺陷检测系统Imperia系统可检测并分类晶圆缺陷,实现光致发光(PL)生产监控。
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