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多功能紧凑型MBE
这款多功能紧凑型MBE系统具有三个腔室,适合用于А3В5, 宽带А2В6 和А3N 化合物(订制版本)的生长,MBE系统设计吸收了这些材料系统中分子束外延的***新成果,非常适合用于半导体材料领域中基于А3В5 宽带А2В6和III氮化物的材料生长研发。
型号:
FPSEM-STE75
品牌:
价格:
¥0.00
类别:
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这款
多功能紧凑型
MBE
系统
具有三个腔室,适合用于
А
3
В
5
, 宽带А
2
В
6
和А
3
N
化合物(订制版本)的生长,MBE系统设计吸收了这些材料系统中分子束外延的***新成果,非常适合用于半导体材料领域中基于
А
3
В
5
宽带А
2
В
6
和
III
氮化物的材料生长研发。
多功能紧凑型
MBE
系统
基本配置:
•生长室的垂直生长几何结构
•
10
个水冷
63CF
端口,用于带百叶窗的渗出细胞,
3
个
40CF
和
1
个不带百叶窗的
63CF
–共
14
个端口
•易于接近渗出细胞快门组件
•紧凑的单液氮冷冻板,有效地包围生长体积
•基于
PBN/PG/PBN
加热元件的生长机械手排气阶段
•标准的分子源,包括
5
个渗出细胞,
V
(
VI
)组或
N2
血浆细胞的带阀裂解器
•适用于材料应用的泵送子系统
•生长过程数据现场监测的所有必要工具:
RHEED
、红外高温计、
Bayard-Alpert
束流监测器、激光干涉仪(可选)
•准备室,带有晶片夹持器的存储盒(
6
个)和脱气台,带有基于离子泵的独立泵送系统:用于原子氢端口的特殊端口
•装载锁室,带有基板支架的存储盒(
3
个),快速检修门和基于涡轮分子泵的泵送系统
•一套基板支架
•适当的超高压仪表
•烘烤系统(高达
200
°
C
),无热点形成
•控制电子设备
•过程控制系统
多功能紧凑型
MBE
系统
主要*势:
•简单集成到特高压集群工具中
•基本系统配置中包括用于生长参数现场监测的所有必要仪器
•由于生长机械手加热阶段的特点,基板加热和冷却速率高,控制热电偶和实际表面温度之间的温差小
•紧凑的“足迹”
•极低的液氮消耗量(低于
10-15
升
/
小时!)
•安装期间的有效技术支持,包括基本工艺转移
•简单的系统操作和定期的技术维护
多功能紧凑型
MBE
系统
参数:
烘烤后生长室的***终真空度,
Torr
<5×10
-11
***大基板直径,
mm
76.2 (3
″
)
3
″基板的厚度和成分不均匀度,
%
±
1
生长机械手加热元件的设计
PBN/PG/PBN
旋转时的***大基板温度,℃:
–对于
A3B5/A2B6
化合物,不少于
–对于
A3N
化合物,不少于
900
1200
制备室加热阶段基板脱气的***高温度,℃
650
(
III
氮化物版本为
1100
)
生长室烘烤温度,不低于,℃
200
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